光学镀膜

光学镀膜

茂莱可以在各种玻璃,红外晶体以及金属基片上镀制绝大多数光学薄膜,当然也可以根据客户需求研制特殊的薄膜。根据客户的特殊应用与要求,我们会运用我们在膜系设计与性能分析上的专业知识或技能,来帮助客户找到最佳镀膜方案。

以下是一些常见的薄膜:

增透膜

  • 深紫外至远红外0.180um-14um;
  • 单点增透 (e.g. R<0.05%@633nm),
  • 宽带增透 (e.g. R<1%@450-1000nm)
  • 双波段增透 (g. R<0.5%@400-700nm & 1064nm);
  • 高效增透 (e.g. R<0.25@400-700nm),
  • 高耐久增透 (severe abrasion);

高激光损伤阈值增透 (e.g. 2.6J/cm2, 7ns pulse,20Hz)

分光膜

  • 金属分光膜,介质分光膜
  • 消偏振分光膜 (e.g. T/R=50/50±5%@400-700nm, |Tp-Ts|<5%),

偏振分光膜 (e.g. Tp/Ts>1000:1@400-700nm);

高反膜

  • 金属高反膜,介质高反膜
  • 深紫外至远红外0.180um-14um;
  • 镀膜口径最大1600mm
  • 单点高反膜 (e.g. 99.8%@632nm),
  • 宽带高反膜 (e.g. R>99%@400-700nm);

高激光损伤阈值高反膜 (e.g. 10 J/cm2, 7ns pulse 20Hz)

滤光片

  • 深紫外至远红外 0.180um-14um
  • 截止滤光片 (e.g. T>96%@400-650nm; T<1%@680-1100nm)
  • 宽带滤光片 (e.g. T<0.1%@300-470nm& 830-1100nm; T>94%@500-800nm)
  • 窄带滤光片 (Tp>85%@1064nm, FWHM=5nm)
  • 双峰滤光片 (Tp>95%@590-630nm& 720-780nm; T<1%@540-570nm&660-700nm)
  • 负滤光片 (T>90%@400-780nm, T>80%@920-1100nm; R>95%@835-865nm)
  • 中心滤光片(衰减片) (T=1E-6@400-1100nm)
  • 修饰滤光片
  • 渐变滤光片

导电膜

  • 方阻值 80-400Ω/□ with T>95%
  • 金属电极

其他

  • 憎水膜
  • 防雾膜

镀膜技术:

蒸发式镀膜,是利用高能电子束气化待镀材料,使其沉积到基板上,这种蒸发法真空度高(P<10-6Pa),特别适于蒸镀易氧化材料,此类方法产生的蒸镀粒子动能小,膜系疏松,需借助离子束辅助镀膜技术提高膜系的致密度。

溅射式镀膜,主要分为离子束溅射和磁控溅射,是利用气体离子将被镀材料溅射沉积到基板上,此类方法产生的溅射粒子的动能较大,膜系密度高。溅射过程容易控制,能得到稳定的镀膜速率,用于EUVL的多层膜大多用溅射镀膜法制成。

通过灵活应用蒸发镀膜和溅射镀膜发法,我们可以选取最佳的镀膜材料和方法来达到客户的特殊要求。

由于蒸发式镀膜存在膜系疏松的不足,因此,可以采用射频(RF)离子源辅助沉积法来改善膜系。射频(RF)离子源是目前能量最强的离子源。在蒸发镀膜过程中,通过应用射频离子源辅助沉积,可以使膜层的微观结构会更加紧凑,从而可以提高膜层致密度,减少波长漂移。该技术是高波长定位精度光学薄膜的首选工艺,适合于超窄滤光片的制备。

光学元件镀膜对于镀膜环境的洁净度有很高的要求,无油真空系统是一种无需任何油脂作润滑就能运转作业的真空系统,它具有操作简便、维护方便、不会污染环境等长处。可以避免真空油脂对基材表面和膜层的污染,从而明显改善膜层的牢固度和膜层吸收,尤其容易满足光学元件在紫外波段的镀膜需求。

随着技术的发展,各类光学系统中对于大口径镜片的需求越来越多,基于Ф1900mm真空室的镀膜机,我们可以镀制最大口径为1600mm的镜面,该类镜面主要镀制高反射率膜,反射率可达98%.