光学镀膜
茂莱可以在各种玻璃,红外晶体以及金属基片上镀制绝大多数光学薄膜,当然也可以根据客户需求研制特殊的薄膜。根据客户的特殊应用与要求,我们会运用我们在膜系设计与性能分析上的专业知识或技能,来帮助客户找到最佳镀膜方案。
以下是一些常见的薄膜:
增透膜
高激光损伤阈值增透 (e.g. 2.6J/cm2, 7ns pulse,20Hz) |
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分光膜
偏振分光膜 (e.g. Tp/Ts>1000:1@400-700nm); |
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高反膜
高激光损伤阈值高反膜 (e.g. 10 J/cm2, 7ns pulse 20Hz) |
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滤光片
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导电膜
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其他
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镀膜技术:
蒸发式镀膜,是利用高能电子束气化待镀材料,使其沉积到基板上,这种蒸发法真空度高(P<10-6Pa),特别适于蒸镀易氧化材料,此类方法产生的蒸镀粒子动能小,膜系疏松,需借助离子束辅助镀膜技术提高膜系的致密度。
溅射式镀膜,主要分为离子束溅射和磁控溅射,是利用气体离子将被镀材料溅射沉积到基板上,此类方法产生的溅射粒子的动能较大,膜系密度高。溅射过程容易控制,能得到稳定的镀膜速率,用于EUVL的多层膜大多用溅射镀膜法制成。
通过灵活应用蒸发镀膜和溅射镀膜发法,我们可以选取最佳的镀膜材料和方法来达到客户的特殊要求。
由于蒸发式镀膜存在膜系疏松的不足,因此,可以采用射频(RF)离子源辅助沉积法来改善膜系。射频(RF)离子源是目前能量最强的离子源。在蒸发镀膜过程中,通过应用射频离子源辅助沉积,可以使膜层的微观结构会更加紧凑,从而可以提高膜层致密度,减少波长漂移。该技术是高波长定位精度光学薄膜的首选工艺,适合于超窄滤光片的制备。
光学元件镀膜对于镀膜环境的洁净度有很高的要求,无油真空系统是一种无需任何油脂作润滑就能运转作业的真空系统,它具有操作简便、维护方便、不会污染环境等长处。可以避免真空油脂对基材表面和膜层的污染,从而明显改善膜层的牢固度和膜层吸收,尤其容易满足光学元件在紫外波段的镀膜需求。
随着技术的发展,各类光学系统中对于大口径镜片的需求越来越多,基于Ф1900mm真空室的镀膜机,我们可以镀制最大口径为1600mm的镜面,该类镜面主要镀制高反射率膜,反射率可达98%.